გოგირდმჟავა 95% სპექტრ. cz. CHEM-615750003 ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: H₂SO₄. მოლური მასა: 98,08 გ/მოლ CAS-ნომერი: 7664-93-9 EC-ნომერი: 231-639-5 სინონიმები: გოგირდმჟავა(VI), ოლეუმი ტიპი: სპექტრ. cz. სისუფთავე: მინ. 95,0% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა ინდუსტრიაში: სპექტროსკოპია და ქიმიური ანალიზი: ნიმუშების მომზადებისთვის და ინსტრუმენტული ანალიზისთვის...

გოგირდმჟავა 95% სპექტრ. ტიტრ. CHEM-615750003 ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: H₂SO₄. მოლური მასა: 98,08 გ/მოლ CAS-ნომერი: 7664-93-9 EC-ნომერი: 231-639-5 სინონიმები: გოგირდმჟავა(VI), ოლეუმი ტიპი: სპექტრ. სუფ. სისუფთავე: მინ. 95,0% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: სპექტროსკოპია და ქიმიური ანალიზი: ნიმუშების მომზადებისთვის და ინსტრუმენტული ანალიზისთვის მაღალსუფთა...

გოგირდმჟავა 95% სპექტრ. ტიტრ. CHEM-615750003 ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: H₂SO₄. მოლური მასა: 98,08 გ/მოლ CAS ნომერი: 7664-93-9 EC ნომერი: 231-639-5 სინონიმები: გოგირდმჟავა(VI), ოლეუმი ტიპი: სპექტრ. სუფ. სისუფთავე: მინ. 95,0% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა ინდუსტრიაში: სპექტროსკოპია და ქიმიური ანალიზი: ნიმუშების მომზადებისთვის და ინსტრუმენტული...

გოგირდმჟავა 95% სპექტრ. ტიტრ. CHEM-615750003 ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: H₂SO₄. მოლური მასა: 98,08 გ/მოლი CAS-ნომერი: 7664-93-9 EC-ნომერი: 231-639-5 სინონიმები: გოგირდმჟავა(VI), ოლეუმი ტიპი: სპექტრ. სუფ. სიწმინდე: მინ. 95,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: სპექტროსკოპია და ქიმიური ანალიზი: ნიმუშების მომზადებისთვის და ინსტრუმენტული ანალიზისთვის...

გოგირდმჟავა 95% სპექტრ. ტიტრ. CHEM-615750003 ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: H₂SO₄. მოლური მასა: 98,08 გ/მოლი CAS-ნომერი: 7664-93-9 EC-ნომერი: 231-639-5 სინონიმები: გოგირდმჟავა(VI), ოლეუმი ტიპი: სპექტრ. სუფ. სისუფთავე: მინ. 95,0% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა ინდუსტრიაში: სპექტროსკოპია და ქიმიური ანალიზი: ნიმუშების მომზადებისთვის და ინსტრუმენტული ანალიზისთვის მაღალსუფთა...

ფტორწყალბადმჟავა 70% pct. ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 მოლური მასა: 20,01 გ/მოლ შემცველობა: 70,0 ± 1,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური მრეწველობა: ფტორნაერთების სინთეზი, ლითონის ზედაპირების გაწმენდა და დახევა. ელექტრონიკა: სილიციუმის დახევა ნახევარგამტარ პროცესებში. ანალიტიკური ლაბორატორიები:...

ფტორისწყალბადმჟავა 70% pct. ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 მოლური მასა: 20,01 გ/მოლ შემცველობა: 70,0 ± 1,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური მრეწველობა: ფტორნაერთების სინთეზი, ლითონის ზედაპირების გაწმენდა და დახეხვა. ელექტრონიკა: სილიციუმის დახეხვა ნახევარგამტარ პროცესებში. ანალიტიკური ლაბორატორიები:...

ფტორის წყალბადმჟავა 70% pct. ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 მოლური მასა: 20,01 გ/მოლ შემცველობა: 70,0 ± 1,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური მრეწველობა: ფტორნაერთების სინთეზი, ლითონის ზედაპირების გაწმენდა და დახევა. ელექტრონიკა: სილიკონის დახევა ნახევარგამტარულ პროცესებში. ანალიტიკური...

ფტორის წყალბადმჟავა 70% pct. ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 მოლური მასა: 20,01 გ/მოლ შემცველობა: 70,0 ± 1,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური მრეწველობა: ფტორნაერთების სინთეზი, ლითონის ზედაპირების გაწმენდა და დახეხვა. ელექტრონიკა: სილიკონის დახეხვა ნახევარგამტარიან პროცესებში. ანალიტიკური...

ფტორის წყალბადმჟავა 70% pct. ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 მოლური მასა: 20,01 გ/მოლ შემცველობა: 70,0 ± 1,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური მრეწველობა: ფტორნაერთების სინთეზი, ლითონის ზედაპირების გაწმენდა და დახეხვა. ელექტრონიკა: სილიციუმის დახეხვა ნახევარგამტარების პროცესებში. ანალიტიკური...

ფტორის წყალბადმჟავა 70% pct. ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 მოლური მასა: 20,01 გ/მოლ შემცველობა: 70,0 ± 1,0% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური მრეწველობა: ფტორნაერთების სინთეზი, ლითონის ზედაპირების გაწმენდა და დახეხვა. ელექტრონიკა: სილიკონის დახეხვა ნახევარგამტარ პროცესებში. ანალიტიკური ლაბორატორიები:...

ფტორწყალბადმჟავა 5% ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 სინონიმები: ფტორწყალბადმჟავა, Fluorwasserstoffsäure სახეობა: სუფთა სისუფთავე: 5% ± 0,5% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა ინდუსტრიაში: ქიმიური ლაბორატორიები: ნიმუშების დასამუშავებლად, ზედაპირის გასაწმენდად და ქიმიური ანალიზებისთვის, როდესაც საჭიროა სილიციუმის მჟავას და ლითონის ოქსიდების დაშლა....

ფტორწყალბადმჟავა 5% ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 სინონიმები: ფტორწყალბადმჟავა, ფტორწყალბადმჟავა სახეობა: სუფთა სისუფთავე: 5% ± 0,5% პროფესიული გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა ინდუსტრიაში: ქიმიური ლაბორატორიები: ნიმუშების ეჭვისთვის, ზედაპირის გასაწმენდად და ქიმიური ანალიზებისთვის, როდესაც საჭიროა სილიციუმის მჟავას და ლითონის ოქსიდების დაშლა....

ფტორწყალბადმჟავა 5% ქიმიური რეაგენტების ტექნიკური ინფორმაცია: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 სინონიმები: ფტორწყალბადმჟავა, ფტორწყალბადმჟავა სახეობა: სუფთა სისუფთავე: 5% ± 0,5% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა ინდუსტრიებში: ქიმიური ლაბორატორიები: ნიმუშების დასახეხად, ზედაპირის გასაწმენდად და ქიმიური ანალიზებისთვის, სადაც საჭიროა სილიციუმის მჟავას და ლითონის ოქსიდების დაშლა....

ფტორწყალბადმჟავა 5% ტექნიკური ინფორმაცია ქიმიური რეაგენტების შესახებ: ქიმიური ფორმულა: HF CAS-ნომერი: 7664-39-3 EC-ნომერი: 231-634-8 სინონიმები: ფტორწყალბადმჟავა, Fluorwasserstoffsäure სახეობა: სუფთა სისუფთავე: 5% ± 0,5% პროფესიონალური გამოყენების მაგალითები სხვადასხვა დარგებში: ქიმიური ლაბორატორიები: ნიმუშების ეჭობისთვის, ზედაპირის გასაწმენდად და ქიმიური ანალიზებისთვის, როდესაც საჭიროა სილიციუმის მჟავას და ლითონის ოქსიდების...